Нанослои gex si1-x на кремнии, полученые методом микроразмерных ростовых ячеек

Статья, 09 Ноября 2012, автор: пользователь скрыл имя

Краткое описание


В настоящей статье показана возможность получения однородных слоёв твердого раствора Gex Si1-x различного состава на кремниевых подложках большого диаметра методом микроразмерных ростовых ячеек.

Содержимое работы - 1 файл

Яценко-статья в ЖЭТФ -2011 с исправлениями С.В. Лозовского.docx

— 237.69 Кб (Открыть файл, Скачать файл)

Открыть текст работы Нанослои gex si1-x на кремнии, полученые методом микроразмерных ростовых ячеек